一位年仅27岁的天才少年朱佳迪，带领团队成功制备出基于二硫化钼的原子级薄晶体管，厚度仅3个原子。通过低温化学气相沉积法，他突破了制备MoS2单层薄膜的技术工艺，且不需高端光刻设备。这一发现为利用超薄二维材料进行芯片制造带来了新希望，让芯片的功能更加强大。朱佳迪的突破神奇非凡，让人民刮目相看，世界为之震撼！
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科学奇迹！27岁天才攻克1纳米芯片技术
导读
一位年仅27岁的天才少年朱佳迪，带领团队成功制备出基于二硫化钼的原子级薄晶体管，厚度仅3个原子。通过低温化学气相沉积法，他突破了制备MoS2单层薄膜的技术工艺，且不需高端光刻设备。这一发现为利用超薄二维材料进行芯片制造带来了新希望，让芯…
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